半导体
以自主等离子体和原子级精度设计世界首创的前道解决方案。
↗了解率先实现世界首创刻蚀的ICD技术、历史与全球基础。
以自主等离子体和原子级精度设计世界首创的前道解决方案。
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以全球市场验证的大面积等离子体刻蚀树立量产标准。
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通过设计、制造与表面处理一体化,成就ICD独有的工艺精度。
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ICD将高密度等离子体与诊断、精密干法刻蚀、ESC与表面处理以及可扩展工程整合为一套工程体系。
ICD以客户满意守护既有市场的信赖,并积极开拓新市场。我们正成长为以等离子体技术推动更美好产业与生活的全球科技企业。
ICD凭借差异化等离子体与高真空技术,开启创造客户新价值的旅程。
→在LCD、AMOLED和Oxide TFT设备市场积累大面积量产技术与客户信赖。
→全新口号表达积极应对市场变化并持续创造客户价值的承诺。
→将显示领域验证的技术拓展至半导体前道和先进封装,构筑下一阶段增长基础。

ICD以热情与挑战、领先技术、持续创新和以人为本的经营,为社会作贡献并迈向World Company。
将客户与同事之间的信赖作为一切判断的基准。
以尖端技术、优质产品和卓越服务引领市场。
尊重人的潜力,公平分享成果。
突破极限的执行力
基于信赖的Teamwork
永不停步的Continuous Change
设计全新的客户价值
从等离子体核心技术到大面积量产设备,再到半导体与先进封装,ICD的发展历程是率先实现客户下一代工艺的记录。
DATABASE / PUBLISHED将经过验证的等离子体技术拓展至全球据点和新产业。
推出4款Bio-Plasma化妆品,拓展等离子体技术的应用领域。
将医疗材料及化学产品制造纳入公司经营范围。
以武汉ICD光电有限公司为中心整合当地运营,并持续进行战略技术投资。
通过物的分割成立ICD Materials,构建专业零部件业务基础。
开发G8.5 OLED ICP Etcher,并大幅扩建安城生产园区。
成立武汉ICD光电有限公司,加强中国客户响应与本地支持。
开发G8 Oxide与AMOLED G6 ICP Etcher,并入选韩国交易所Hidden Champion。
入选产业通商资源部World Class 300,并获纳税人之日产业勋章。
以大面积设备与出口成果赢得市场长期信赖。
플라즈마 기술 확장
获得三千万美元出口塔及优秀合作伙伴奖,并竣工安城研修中心。
在韩国交易所KOSDAQ上市,进一步夯实持续增长与全球发展的基础。
开发并交付G8 Dry Etcher与AMOLED G5.5设备,竣工安城第三工厂。
获得Samsung Mobile Display Best Partner奖,并持续扩充设备组合。
向中国出口韩国首台TFT-LCD Dry Etcher,正式进入全球量产市场。
以自主技术、首次交付与首次出口奠定ICD基础。
获得ISO 9001认证,并交付韩国首台TFT-LCD用Metal Dry Etcher。
交付韩国首台AMOLED用HDP Etcher,并开发G4与G5 ICP Etcher。
获得一千万美元出口塔,并设立台湾办事处和安城第二工厂。
竣工安城园区并获得五百万美元出口塔,建立规模化成长据点。
完成企业附属研究所登记、CE认证,并在SID发布技术成果。
首次向台湾出口Plasma PI Rework Asher,并交付韩国首台AMOLED用HDP Asher。
自主开发AMOLED·LTPS用HDP Etcher及TFT-LCD用Dry Etcher。
公司正式成立并启动生产与研发,迈出等离子体设备企业的第一步。