
BDF Etcher
BDFビア加工と微細ピッチRDL向けプラズマプラットフォーム
- プロセス
- ビアホールプラズマ加工
- 均一性
- 基板内・基板間
- 生産性
- 高スループット
PRECISION IN THE INVISIBLE
25年以上のOLED量産経験と独自プラズマ技術を一台の装置に統合。ソース、チャンバー、ESC、レシピを直結し、ICDならではのエッチング結果を実現します。
世界初のプロセスを量産へ導くICD独自の装置プラットフォームをご覧ください。
ディスプレイ量産で実証したプラズマ技術を、半導体前工程とガラスインターポーザへ展開します。

生産性とLow-k保護を両立するハイブリッドアッシング
プラズマ、真空、イオンエネルギー、温度を独立制御し、再現困難なプロセス結果を完成させます。

独自のソース設計によりウェハ全面へ均一な高密度プラズマを形成し、プロセスダメージを抑えます。
ANSEONG · KOREA37°00'N / 127°16'E安城の統合研究・製造キャンパスで、プラズマ源、プロセス、機構、制御を一体開発。設計と現場検証を重ね、新たなエッチング基準を築きます。
安城から世界の顧客生産ラインまで、ICDチームがエッチング精度と量産信頼性を守ります。
世界の各大陸と主要顧客ネットワークを表示しています。
ディスプレイから先端パッケージングまで、ICDの技術は世界の顧客現場とつながっています。