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아이씨디 머트리얼즈

MATERIALS · SURFACE TREATMENT · COMPONENTS

DISPLAY AMOLED

Display AMOLED ESC Line-up

Display AMOLED ESC Technology & Product Portfolio

AMOLED 식각/증착/박막 공정에 최적화된 ESC 제품군

Dry Etch

Dry Etch Advanced ESC

주요 사양
적용 공정	Metal / Non-Metal
냉각 성능	+30% (vs. Conventional)
대응 세대	Up to Gen 8.6
ESC Type	Unipolar

PVD / Sputtering

Sputter Bipolar ESC

주요 사양
적용 공정	Sputter / PVD
주요 기능	GLS Slip / Cooling
대응 세대	Up to Gen 8.6
ESC Type	Bipolar

CVD Process

CVD ESC

주요 사양
적용 공정	CVD
최대 온도	Up to 300 ℃
RF 출력	~ 0.6 W/cm²
ESC Type	Bipolar

Evaporation (OLED)

Evaporator Bipolar ESC

주요 사양
적용 공정	Evaporation (OLED)
평탄도 제어	≤ 50 ㎛
대응 세대	Up to Gen 8.6-h
ESC Type	Bipolar

SEMICONDUCTOR

Semiconductor ESC Line-up

Semiconductor ESC Technology & Product Portfolio

공정 온도별 최적화된 ESC 제품군과 Multi-Zone 기반의 온도 제어 기술

Artic-ESC

PVD / Sputter / Etch

−40 ℃ ~ 20 ℃

Al₂O₃ Ceramic Sheet
Cooling Optimized
Low Particle

RT-ESC

PVD / Sputter / Etch

20 ℃ ~ 80 ℃

Al₂O₃ Ceramic Sheet
Thermal Stability
Multi-Zone Option

HT-ESC

Metal Deposition / Metal Etch

80 ℃ ~ 150 ℃

Multi-Zone Structure
Plasma Resistance
Thermal Uniformity

UHT-ESC

CVD / High Temp Process

150 ℃ ~

Al₂O₃ / AlN Ceramic
Heater
Multi-Zone Structure

MULTI-ZONE TEMPERATURE CONTROL

ESC Type & Temperature Uniformity

ESC 구조별 온도 균일도 비교

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ESC temperature uniformity: Conventional ESC ±2.0℃, 4-Zone ESC ±1.0℃, 32-Zone ESC ±0.5℃, 100-Zone ESC ±0.25℃

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