01
Dry Etch
Dry Etch Advanced ESC
| Process | Metal / Non-Metal |
|---|---|
| Cooling | +30% (vs. Conventional) |
| Generation | Up to Gen 8.6 |
| ESC Type | Unipolar |
FAMILY SITE / ICDM
ICD Materials
MATERIALS · SURFACE TREATMENT · COMPONENTS
Display AMOLED ESC Line-up
Display AMOLED ESC Technology & Product Portfolio
AMOLEDのエッチング・蒸着・薄膜工程に最適化したESC製品群
02
PVD / Sputtering
Sputter Bipolar ESC
| Process | Sputter / PVD |
|---|---|
| Function | GLS Slip / Cooling |
| Generation | Up to Gen 8.6 |
| ESC Type | Bipolar |
03
CVD Process
CVD ESC
| Process | CVD |
|---|---|
| Max. Temperature | Up to 300 ℃ |
| RF Power | ~ 0.6 W/cm² |
| ESC Type | Bipolar |
04
Evaporation (OLED)
Evaporator Bipolar ESC
| Process | Evaporation (OLED) |
|---|---|
| Flatness Control | ≤ 50 ㎛ |
| Generation | Up to Gen 8.6-h |
| ESC Type | Bipolar |
Semiconductor ESC Line-up
Semiconductor ESC Technology & Product Portfolio
工程温度に最適化したESC製品群とMulti-Zone温度制御技術
01
Artic-ESC
PVD / Sputter / Etch
−40 ℃ ~ 20 ℃
- Al₂O₃ Ceramic Sheet
- Cooling Optimized
- Low Particle
02
RT-ESC
PVD / Sputter / Etch
20 ℃ ~ 80 ℃
- Al₂O₃ Ceramic Sheet
- Thermal Stability
- Multi-Zone Option
03
HT-ESC
Metal Deposition / Metal Etch
80 ℃ ~ 150 ℃
- Multi-Zone Structure
- Plasma Resistance
- Thermal Uniformity
04
UHT-ESC
CVD / High Temp Process
150 ℃ ~
- Al₂O₃ / AlN Ceramic
- Heater
- Multi-Zone Structure
MULTI-ZONE TEMPERATURE CONTROL
原寸画像を見るESC Type & Temperature Uniformity
ESC構造別の温度均一性比較
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ICD Materials
ICD Materialsは、AMOLED・LCD装置向け静電チャック（ESC）装置の製造・販売を主な事業として、2018年6月1日にICDからの会社分割により設立されました。本社および工場は韓国京畿道安城市大徳面にあります。
韓国中小企業庁より、ベンチャー企業育成に関する特別措置法第25条に基づくベンチャー企業の認定を受けています。
事業分野
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High Performance Products Provide
素材・表面処理・部品を網羅するComponent Total Solution
ESC Technology
材料開発、自社設計、溶射コーティング、自社加工・研磨技術
Material & Coating Technology
APS・SPS・G-APS・機能性コーティングの微細構造と物性比較
